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Pfeiffer EVR116产品详情
概述
Pfeiffer EVR116是一款气体控制阀，用于控制真空系统中的气体流量。它具有以下特点：
高流量:可提供高流量，满足各种应用需求。
高精度:可提供精确的气体流量控制。
高可靠性:采用坚固耐用的设计，可承受恶劣的环境条件。
易用性:提供用户友好的控制软件和维护工具。
应用
EVR116可用于各种真空系统应用，包括：
溅射镀膜:控制溅射过程中的气体流量。
电子束蒸发:控制蒸发过程中的气体流量。
离子束蚀刻:控制蚀刻过程中的气体流量。
分析仪器:控制分析仪器中的气体流量。
典型应用
在某半导体制造厂中，使用了多台EVR116控制溅射镀膜过程中的气体流量。
在某光学元件制造厂中，使用了多台EVR116控制电子束蒸发过程中的气体流量。
在某科研机构中，使用了多台EVR116控制离子束蚀刻过程中的气体流量。
在某分析实验室中，使用了多台EVR116控制分析仪器中的气体流量。
技术规格
最大流量：1250 hPa·l/s
最小流量：5·10^-6 hPa·l/s
控制精度：±1%
工作温度：5°C至40°C
防护等级：IP65
